Patent applications; Group III compounds; Group V compounds; Epitaxial growth; Liquid phases; Layers; Substrates; Indium phosphides; Hydrogen; Microwave equipment; Vapors; Dissociation; Surfaces; Crystal growth; Inventions; Roughness;
机译:液相扩散法生长的InAs基III-V族化合物和Si / Ge半导体表观应变诱发的孤岛和量子点
机译:液相外延法生长III-V族化合物半导体的微电子应用研究
机译:III-V族化合物半导体的液相电外延生长模拟研究
机译:通过HVPE(110),(110),(1111)A,(311)A和(311)B表面的电导和绝缘III-V化合物的快速外延生长
机译:III-V族化合物半导体的高纯度外延生长和表征。
机译:固态衬底上高度稳定的整体式UiO-66-NH2 MOF薄膜的液相准外延生长
机译:X射线同时布拉格衍射法测定四元III-V液相外延层中的三维晶格失配
机译:一种改进的III-V族化合物液相外延生长方法。