机译:等离子体增强化学气相沉积法生长的氢化非晶碳化硅的离子束加工
Structural-properties; Films; A-si1-xcx-h;
机译:等离子体增强化学气相沉积法生长的氢化非晶碳化硅的离子束加工
机译:等离子增强化学气相沉积系统中二甲苯源制备的氢化非晶碳化硅的蓝光发射
机译:由二甲苯源在等离子体增强的化学气相沉积系统中由二甲苯源制备的氢化非晶碳化硅的蓝光发射
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积沉积氢化非晶碳化硅薄膜
机译:使用直流等离子体等离子体增强化学气相沉积法合成化学计量的氢化非晶碳化硅薄膜。
机译:通过化学气相沉积法在石墨烯上生长的量子霍尔电阻标准碳化硅
机译:通过等离子体增强的化学气相沉积沉积氢化非晶碳化硅薄膜
机译:通过远程等离子体增强化学气相沉积(远程pECVD)生长的非晶硅合金中缺陷产生的基础研究。年度分包合同报告,1990年9月1日 - 1991年8月31日