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机译:氢谱法研究基片对PdH_X薄膜热力学性质的影响。
Hydrogenography; Clamping effect; Stress release; Free-standing film; Hysteresis;
机译:氢谱法研究基片对PdH_X薄膜热力学性质的影响。
机译:通过电化学液体造影研究的PD薄膜中氢化物的分层支持的生长
机译:电化学氢谱法研究Pd薄膜中氢化物的脱层支撑生长
机译:UV-VIS-NIR光谱法研究在二氧化硅基底上制备的C-Pd膜的光学性质
机译:通过压痕研究薄膜/基材材料中的实用粘合力
机译:LEEM研究了衬底温度对Ir {111}负载石墨烯上对亚联苯基薄膜生长的影响
机译:mgH2薄膜的热力学性质,滞回行为和应力 - 应变分析,在宽温度范围内研究