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【24h】

So werden aus Staub und Plasma Schichten

机译:这是灰尘和等离子体变成层的方式

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摘要

Ein neues atmospharisches Plasmabeschichtungsverfahren erschliesst vielfaltige Anwendungsgebiete. Keine VOC-Emissionen, niedrige Prozesstemperaturen und ein sehr umfangreiches Sortiment an Substrat-Schicht-Materialpaarungen - das patentierte Plasmadust-Verfahren ist ausserst vielseitig. Auch wenn die Prozesskomponenten Staub und Plasma jedes fur sich wenig spektakular klingen - das Interesse in der Industrie ist gross und die Anwendungsmoglichkeiten sind noch lange nicht erschopfend ausgelotet.
机译:一种新的常压等离子体涂层工艺打开了多种应用领域。无VOC排放,低工艺温度和广泛的基材层材料配对-获得专利的Plasmadust工艺用途广泛。即使过程成分中的灰尘和等离子体本身听起来并不特别引人注目,但工业界仍对它产生了浓厚的兴趣,并且尚未详尽地探讨可能的应用。

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