イオンビーム照射施設TIARAにおけるビーム技術の進展

摘要

1993年、日本原子力研究所高崎研究所（現在の日本原子力研究開発機構高崎量子応用研究所）に世界初の材料科学やバイオ技術分野の研究開発専用のイオンビーム照射施設TIARAが建設された。 図－1に加速器及びそのビームラインの配置図を示す。この施設には、AVFサイクロトロン、3MVタンデム加速器、3MVシンクリレエンド加速器、そして400kVイオン注入装置の3基の静電加速器が装備され、従来の加速器施設とは異なり、一施設でそれぞれ特徴のある4種類のイオン加速器によって、水素などの車重い元素から金のような重い金属まで、多種渠頁のイオンビームを、比較的高いエネルギー領域、数万電子ボルト（数￣百k亘Ⅴ）から数億電子ボルト（数百M亘Ⅴ）までの幅広いエネルギー範囲で、材料や生物言式料に対して照射し、その表面だけではなく内部にまで深く入射させることによってその飛跡に沿った領域に導入される電離などの放射線作用を利用するさまざまな研究がおこなわれてきた。