半導体の微細化を促進する超高速リソグラフィシミュレーション技術

摘要

リソグラフィシミュレーション技術はこれまで，光の波長以下の回路パターンを形成させるための手段として，半導体デバイスの高集積化と微細化をけh引してきた。しかし近年，リソグラフィ技術の課題の解決が従来以上に難しくなってきており，微細化を更に進展させるためには，リソグラフィシミュレーション技術のいっそうの進歩が不可欠である。東芝は，新たに画像処理技術を採り入れることで計算機リソグラフィ技術をいち早く強化し，処理時間と精度のトレードオフを克服することによって，リソグラフィシミュレーション技術開発を推進し，微細化を加速している。