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新製品の高純度半導体製造プロセス用低圧標準流量タイプ圧力調整器「L26」

机译:低压标准流量型压力调节器“L26”用于新产品的高纯度半导体制造过程

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摘要

新製品は高純度半導体製造プロセス用低圧標準流量タイプ圧力調整器「L26」。従来モデルの「L25」との比較で、構造の最適化でガス放出時の圧力降下量を半分に向上(流量特性5%向上)、パーティクル0.1μmノーカウントにグレードアップ(Uグレード·特殊研磨処理)、圧力調整ハンドルの形状を変えたことにより持ち易く操作性を向上させている。
机译:新产品是高纯度半导体制造工艺“L26”的低压标准流量型压力调节器。 与常规模型的“L25”相比,我们将气体释放时的压降量提高(流动特性5%的改善)和等级至颗粒0.1μm(U级/特殊抛光过程)通过改变压力调节手柄的形状,可操作性很容易提高。

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