首页> 外文期刊>ガスレビユ— >新製品の高純度半導体製造プロセス用低圧標準流量タイプ圧力調整器「L26」
【24h】

新製品の高純度半導体製造プロセス用低圧標準流量タイプ圧力調整器「L26」

机译:用于高纯度半导体制造工艺“ L26”的新产品低压标准流量型压力调节器

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

新製品は高純度半導体製造プロセス用低圧標準流量タイプ圧力調整器「L26」。従来モデルの「L25」との比較で、構造の最適化でガス放出時の圧力降下量を半分に向上(流量特性5%向上)、パーティクル0.1μmノーカウントにグレードアップ(Uグレード·特殊研磨処理)、圧力調整ハンドルの形状を変えたことにより持ち易く操作性を向上させている。
机译:新产品是用于高纯度半导体制造工艺的低压标准流量型压力调节器“ L26”。与传统型号“ L25”相比,通过优化结构将气体释放时的压降降低了一半(流动特性提高了5%),并且颗粒已升级为无计数的0.1μm(U级,特殊抛光处理)。 ),压力调节手柄的形状已更改,以使其更易于握持并提高可操作性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号