首页> 外文期刊>Доклады Академии наук >ИЗОТОПНО-СЕЛЕКТИВНАЯ МНОГОФОТОННАЯ ДИССОЦИАЦИЯ МОЛЕКУЛ ХЛОРМЕТИЛТРИФТОРСИЛАНА (CH2ClSiF3) ПОД ДЕЙСТВИЕМ ИЗЛУЧЕНИЯ ИМПУЛЬСНОГО СО2-ЛАЗ
【24h】

ИЗОТОПНО-СЕЛЕКТИВНАЯ МНОГОФОТОННАЯ ДИССОЦИАЦИЯ МОЛЕКУЛ ХЛОРМЕТИЛТРИФТОРСИЛАНА (CH2ClSiF3) ПОД ДЕЙСТВИЕМ ИЗЛУЧЕНИЯ ИМПУЛЬСНОГО СО2-ЛАЗ

机译:在脉冲CO2-Laz排放作用下,在脉冲CO2-Laz排放作用下的氯甲基硫脲三氟丙烷分子(CH2CLSIF3)的同位素选择性多相解离

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Лазерные методы разделения изотопов основа-ны, прежде всего, на многофотонной диссоциации (МФД) молекул под действием излучения импульс-ного ИК лазера [1,2]. Возросший в последнее время интерес к применению моноизотопного кремния в полупроводниковой промышленности [3] делает актуальной задачу изучения МФД кремнийсодер-жащих молекул с целью поиска соединений, наибо-лее подходящих для использования в технологии ла-зерного разделения изотопов.
机译:同位素分离的激光方法主要基于脉冲IR激光辐射的作用下的多选解离(MFD)分子[1,2]。 最近增加了在半导体工业中使用单同位素硅的兴趣[3]采取迫切任务,用于研究硅氧烷的分子MFD以寻找化合物,最适合于在La粒同位素技术中使用。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号