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机译:在电子掺杂的铜替换三层铜的正常状态电气传输中观察到的载波限制效应
Univ Salerno Dipartimento Ingn Ind DIIN I-84084 Fisciano SA Italy;
Univ Salerno Dipartimento Ingn Ind DIIN I-84084 Fisciano SA Italy;
Univ Salerno Dipartimento Fis ER Caianiello I-84084 Fisciano SA Italy;
Univ Salerno Dipartimento Ingn Ind DIIN I-84084 Fisciano SA Italy;
CNR SPIN uos Salerno I-84084 Fisciano SA Italy;
Cornell Univ Dept Phys Ithaca NY 14853 USA;
Cornell Univ Sch Appl &
Engn Phys Ithaca NY 14853 USA;
Cornell Univ Sch Appl &
Engn Phys Ithaca NY 14853 USA;
Cornell Univ Dept Phys Ithaca NY 14853 USA;
Cornell Nanoscale Sci Kavli Inst Ithaca NY 14853 USA;
Univ Salerno Dipartimento Ingn Ind DIIN I-84084 Fisciano SA Italy;
interfaces; molecular beam epitaxy; quantum wells; electron-doped cuprates; oxides;
机译:在电子掺杂的铜替换三层铜的正常状态电气传输中观察到的载波限制效应
机译:在电子掺杂的铜酸铜中的异常正常状态磁传输
机译:掺杂不足或掺杂过量的铜酸盐超导体的常态电导率:Pseudogap对面内和c轴电荷传输的影响
机译:用于电子掺杂铜铜超导体Cu K-Edge XAFS的还原和氧化退火效应
机译:胶体砷化铟和磷化铟量子线和棒:合成,量子约束效应和电传输性质。
机译:电子掺杂铜酸盐中尺度不变的常态电阻率与超导性的相关性
机译:电子掺杂铜酸铜的红外特性:跟踪PR 2 - X CE X CuO 4中的正常状态间隙和量子临界行为