流量制御機器に求めるガスパネル上のニーズ：ガスシステムを設計·製作する上で流量制御機器に求める性能

摘要

CVD、拡散、エッチング、スパッタリング等の半導体製造装置には、ガスパネルと呼ばれるガス供給システムが搭載されている。 ガス供給システムによりプロセスチャンバー内に送るガスの流量を制御し、プロセスチャンバー内の各ガス分圧を一定にし、プロセスが正確且つ再現性良く行われている。 半導体の高集積化とコストダウンの両立は、微細化と処理ウエハの大口径化により達成されてきたが、そのためガスパネルに使われるMFC 等流量制御に関する機器は一層の高性能化が求められている。