次世代半導体洗浄技術：高性能薬液濃度モニタ－薬液濃度モニタCS-100/CS-100F1シリーズと測定対象薬液の紹介

摘要

半導体製造工程に欠かすことの出来ないウエット洗浄工程に、HORIBAの薬液濃度モニタが搭載されはじめて10年以上が経過した。 パーティクル除去を目的とした薬液であるAPM（アンモニア／過酸化水素／水の混合液）測定用濃度モニタが最初にウエット洗浄工程で採用された。年々ICのデザインルールの微細化が進み、より高機能な洗浄が要求されている。それに伴い、ウエット洗浄工程においても、当初は薬液濃度をモニタする要求であったが、現在ではフィードバック機能など、薬液濃度モニタにさらに高い性能および品質が要求されるようになった。 HORIBAは、これまでに蓄積した測定ノウハウを基にして、これらの要求に応える製品を開発してきた。 現在は、3世代目となる薬液濃度モニタCS-100/CS-100F1シリーズで製品展開を図っている。以下、簡単に製品内容を紹介する。