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水晶ウエハのダメージレス鏡面研削に関する研究-EPD砥石の研削性能とウエハ品位の評価

机译:晶体晶片无损镜面研磨研究-EPD磨石的研磨性能和晶片质量评估

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摘要

次世代携帯電話など製品の高機能化に伴い,水晶部品は小型化,薄片化,鏡面化が要求されている.そのため,ウエハからチップを切り出して研磨を行う従来工程では,微小チップの扱いが難しく,長時間を要するため,ウエハの状態でダメージなく鏡面研削が実現できれば有益である.そこで本研究では,メカノケミカル反応によって鏡面創成が期待できるシリカEPD砥石とセリアEPD砥石を試作し,それらの研削性能を調査した.その結果,3インチ水晶ウエハに対して,シリカEPD砥石を用いた場合,乾式研削でダメージのない1nmRaの鏡面創成が可能であった.一方,セリアEPD砥石では,湿式研削においてダメージのない0.05nmRaの鏡面創成が実現できた.
机译:随着诸如下一代移动电话之类的产品功能的增强,要求晶体零件更小,更薄且镜面加工。因此,在以往的从晶片切出芯片并进行研磨的工序中,难以处理微小的芯片且花费时间长,因此能够在不损伤晶片的状态下实现镜面磨削是有利的。因此,在这项研究中,我们对二氧化硅EPD磨石和二氧化铈EPD磨石进行了原型设计,可以预期通过机械化学反应产生镜面,并研究了它们的研磨性能。结果,当将二氧化硅EPD磨石用于3英寸的晶体晶片时,可以产生1nmRa的镜面而不会由于干磨而损坏。另一方面,使用Celia EPD砂轮,可以产生0.05 nm Ra的镜面,而不会在湿磨中受损。

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