ピュアオゾンジェネレータ連続発生装置の開発

摘要

オゾンは酸素に比べてはるかに高い酸化力を有することが知られている。 そのため近年、半導体製造プロセス、水処理、殺菌、消臭など様々な分野でオゾンが使われてきている。 しかしながら、従来のオゾンガス濃度は10％程度であり、とりわけ半導体分野において、オゾンの高い酸化力を十分に活用できていなかった。そこで独立行政法人産業技術総合研究所と共同で、濃度99％以上のオゾンガス（以下、ピュアオゾン）の発生装置を開発した。