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ボレート系非線形光学結晶を用いた真空紫外光発生-CLBOを用いた189nm光発生と紫外光経時劣化特性の評価

机译:使用硼酸盐非线性光学晶体的真空紫外光产生-使用CLBO的189 nm光产生以及随时间的紫外光劣化特性评估

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摘要

近年,高集積度半導体デバイス製造分野において集光性に優れた紫外レーザー光が求められている.非線形光学結晶を用いた波長199nmのパルス全固体光源[1]搭載のフォトマスク微小欠陥検査は,2007年にhp45-32nmノード世代対応機種として稼働を始めたが,2011年にはhp20nmノード以下のデバイス向けマスクの検査,さらにはEUVマスクの検査も可能な状況まで技術が向上している[2].本研究では,現行検査波長よりも10mm短い189nm付近の真空紫外(VUV)光発生を,ボレート系結晶を用いて検討した.特に,薯者らが開発を進めてきたCsLiB_6O_(10)(CLBO)を中心に評価した.CLBOは300nm以下の紫外光波長変換特性に優れ,190nm台のVUV光発生でも実績がある材料である[3,4].本稿では180mm台の波長変換効率等を報告したい.また,パルス紫外光発生時(波長266mm)に生じる出力,ビーム形状の経時劣化に関しても述べる.
机译:近年来,在制造高度集成的半导体器件的领域中需要具有优异的聚光性能的紫外激光。使用非线性光学晶体配备波长为199 nm的脉冲全固态光源[1]的光掩模微缺陷检查,在2007年开始作为与hp45-32 nm节点兼容的模型运行,但在2011年,它开始以与hp20 nm或以下节点兼容的模型运行。该技术已经改进到可以检查设备的掩模甚至是紫外线掩模的程度[2]。在这项研究中,我们研究了使用硼酸盐晶体在189 nm附近产生的真空紫外(VUV)光,该光比当前检查波长短10 mm。特别是,我们专注于由Yabu等人开发的CsLiB_6O_(10)(CLBO)。 CLBO是一种具有300 nm或更小的出色的紫外线波长转换特性的材料,并且在产生190 nm范围的VUV光方面具有可靠的记录[3,4]。在本文中,我想报告180毫米范围内的波长转换效率。我们还描述了当产生脉冲紫外光(波长266 mm)时输出和光束形状随时间而变差的情况。

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