keV級イオン·電子線励起反応場でのナノ·マイクロ構造体創成

摘要

keV級のイオン照射励起反応場を積極的に使ったナノ·マイクロCu系突起状構造体創成および集束電子線照射励起反応場でのAlナノ粒子操作の事例を紹介する．keV級イオン励起反応場で形成された突起構造体は形状や相由来の様々な特異的物理·化学·光学的特性を示す．keV級集束電子線照射は，融合制御や原子集団の配列操作および界面·ナノ空間設計制御の可能性を示しておリナノスペース設計が可能となると思われる．希少資源代替や新規デバイスなど産業界での活用が期待できる．