自己機能形成材料によるナノ ～ミクロンサイズの簡便なパターン構築

摘要

今日のデバイスの高機能化、ダウンサイジング化に伴い、微細パターンを簡便に形成する技術が求められている。従来の光リソグラフィーを用いて微細構造を構築する技術は、露光、現像などの複雑なプロセスを経て材料に3次元的な凹凸構造をつくる技術であり、得られた微細構造に異なる材料を積層したりエッチングすることにより機能デバイスを構築する。