塩酸塩電解による半導体アルカリ洗浄液の生成－次亜塩素酸の電解生成により,低環境負荷と高洗浄性能を両立

摘要

半導体製造の洗浄工程では，一般に希フッ酸（DHF）や過酸化水素（H_2O_2）水に酸性やアルカリ性の物質を加えた洗浄液で有機物やパーティクル，金属などを除去し，ウェーハを清浄化します。近年，半導体デバイスの微細化及び高性能化や，環境及びコストの面から，洗浄性能の向上と環境負荷の低減が求められています。東芝は，次亜塩素酸（HCIO）の電解生成を利用し，環境負荷を低減できる新しいアルカリ洗浄液を開発しました。この洗浄液はパーティクルの除去性能に加え，有機物や金属などに対しても高い除去性能があります。