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表面プロセス解析研究分野

机译:表面过程分析研究领域

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摘要

本研究分野では,機能性多層膜の界面や固体の微小領域などの電子状態を主として極紫外·軟X線を用いて研究している.また,併せて軟X線多層膜を用いた顕微分光技術の開発も行っている.2006年の研究活動は以下のように概括される.
机译:在这个研究领域中,我们主要使用极紫外和柔和X射线研究电子状态,例如功能多层膜的界面和固体的微小区域。同时,我们还在开发使用软X射线多层膜的显微差分光技术。 2006年的研究活动总结如下。

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