電子線グラフト重合法による製塩用新規イオン交換膜の開発（第4報）ナイロン6製フイルムを基材とした陽イオン交換膜の高分子構造

摘要

ナイロン6製の厚み25μmのフイルムにスチレンスルホン酸ナトリウム（SSS）を電子線グラフト重合することによって，陽イオン交換膜（SSS膜）を作製した．得られたSSS膜中の基材フイルム由来の微結晶のサイズおよび徴結晶間の距離を，それぞれX線回折法および中性子小角散乱法によって測定した．グラフト率の増加に伴って，微結晶のサイズは減少し，一方，徴結晶間の距離は増加した．これは，ナイロン6のラメラ周縁部に接ぎ木されたポリSSS鎖が徴結晶を一部，崩して，ラメラ間の非晶部に侵入するためである．0．5MNaClを電気透析で，現行の陽イオン交換膜と同等の近い性能を示したグラフト率150％のSSS膜の徴結晶のサイズおよび微結晶の間隔は，それぞれ7．6および13nmであった．