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TiAl金属間化合物の高温酸化に及ぼすAlの溶融塩電析処理による効果

机译:Al熔盐电沉积对TiAl金属间化合物高温氧化的影响

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摘要

AlF_3含むNaCl-KCl溶融塩中,定電位カソード分極によりTiAl上にAlを電析させ,電析層を生成し,その耐酸化性を調べた。 得られた結果は以下のとおりである。 (1)電着物の質量は,分極電位の低下に伴うカソード電気量の増加とともに増加した。 また,電着反応の電流効率は高かった。(2)-1.3~-1.6Vで形成された電析物は層状の形態を呈し,その構成物はTiAl_3であった。 これらの電析物はTiAlを均一に被覆し,TiAlとの密着性は良好であった。 分極電位の低下は電析層の厚さを増大させた。 (3)電析層を被覆したTiAlを1273K,大気中で酸化した結果,酸化増量は極めて小さかった。 この場合, 電析層表面には保護的なα-Al_2O_3皮膜の形成が認められた。
机译:在含有AlF_3的NaCl-KCl熔融盐中,通过恒电位阴极极化将电沉积在TiAl上以形成电沉积层,并检查其抗氧化性。得到的结果如下。 (1)电沉积材料的质量随着极化电位的降低而随着阴极电量的增加而增加。另外,电沉积反应的电流效率高。 (2)在-1.3至-1.6V下形成的电沉积产物具有层状形态,并且其组成为TiAl_3。这些电沉积物均匀地涂覆了TiAl并且对TiAl具有良好的粘附性。极化电位的降低增加了电沉积层的厚度。 (3)在空气中以1273K氧化覆盖电沉积层的TiAl的结果是,氧化的增加极小。在这种情况下,在电沉积层的表面上观察到保护性α-Al_2O_3膜的形成。

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