フォトリソグラフィを利用したパラジウム複合膜の作製と水素透過性能の評価

摘要

微細加工技術であるフォトリソグラフィを利用したパラジウム複合膜の作製を試みた。まず平滑なプラスチック基材上にパラジウムを析出した後、フォトレジストをコーティングし、フォトマスクを通した光照射を利用してパラジウム上に多孔質ニッケル支持層を作製した。得られたパラジウム複合膜は膜厚に対応した水素透過性能が得られ、パラジウムとニッケル層の間に高融点金属超薄膜の熱拡散抑制層を形成することで安定に使用できた。