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机译:通过低能电子暴露实现EUV PAG的产酸效率
EUV; photoresist; lithography; quantum yield; efficiency; electron;
机译:通过低能电子暴露实现EUV PAG的产酸效率
机译:产酸效率对化学放大电子束,X射线和EUV抗蚀剂中羟基保护率的依赖性
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机译:紫外线和高能辐射照射下PAG和基质结构对PAG酸生成行为的影响
机译:用于提高下一代多核服务器系统设计中的能效和信息安全的低成本技术
机译:在单次损伤阈值以下的长期自由电子激光照射下EUV镜辐射损伤抵抗性的实验研究
机译:测量ARF曝光期间PAG(光酸发生器)酸生成速率常数的技术
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