机译:使用新星和氨前驱体的低氧和无氧镍纳米薄膜的等离子体辅助原子层沉积和退火后增强
机译:使用新星和氨前驱体的低氧和无氧镍纳米薄膜的等离子体辅助原子层沉积和退火后增强
机译:原子层沉积生长的ZnO的电阻率:沉积温度和后退火的影响
机译:使用Ni(Dmamb)(2)作为Ni前体的低温原子层沉积硫化镍和氧化镍薄膜
机译:TiN薄膜在低沉积温度下的等离子辅助原子层沉积,适用于高长宽比的应用
机译:自组装介孔低k电介质上的共形纳米帽层的等离子体辅助原子层沉积。
机译:杂原子镍的原子层沉积NH3的Ni前体和缺陷的选择性沉积石墨烯
机译:具有低电阻率的镍纳米管的等离子体增强的原子层沉积,用于3D闪铜的低电阻率和相干磁化动力学
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。