机译:通过嵌段共聚物光刻结合抗蚀剂设计制备高度有序的20 nm以下纳米硅纳米柱
机译:通过嵌段共聚物光刻结合抗蚀剂设计制备高度有序的20 nm以下纳米硅纳米柱
机译:使用嵌段共聚物光刻技术在大面积上制造密堆积,有序,高纵横比的硅纳米柱
机译:使用PS-b-PDMS Diblock共聚物的快速无刷热组装制备亚10纳米硅纳米柱
机译:专为193 nm光刻和环保型超临界CO2开发而设计的嵌段和无规共聚物抗蚀剂
机译:嵌段共聚物光刻的材料设计。
机译:在没有金属粘附层的二氧化硅衬底上大规模制备高度有序的20 nm以下的贵金属纳米粒子
机译:嵌段共聚物光刻结合抗蚀剂设计制备高度有序的20 nm以下纳米硅纳米柱
机译:具有亚20nm特征的强相分离嵌段共聚物。