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机译:通过射频磁控溅射使用单一靶材进行无硒化制备的Cu(In,Ga)Se2薄膜的表征
Cu(In_(1-x)Ga_x)Se2; Thin film solar cell; Absorber layer; RF magnetrons sputtering;
机译:通过射频磁控溅射使用单一靶材进行无硒化制备的Cu(In,Ga)Se2薄膜的表征
机译:通过单步硒化溅射沉积的Cu-In-Ga-Se前驱体层制备的无Ga偏析的Cu(In,Ga)Se_2薄膜
机译:从单个靶溅射出的Cu(In,Ga)Se_2薄膜和器件,无需额外的硒化
机译:从单个靶溅射而没有额外硒化的Cu(In,Ga)Se2薄膜和器件的表征
机译:射频磁控溅射生长的GaN薄膜的特性用于制造AlGaN / GaN HEMT生物传感器
机译:射频磁控溅射制备铁氧体石榴石(BiLuY)3(FeGa)5O12薄膜材料的性能
机译:通过磁控溅射法从单个靶法沉积参数对Cu(In,Ga)Se2膜的影响