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【24h】

TOC Removal of Raw Industrial Wastewater from LSI Photo-Resist Processing with H_2O_2/UV in a Batch Reactor

机译:间歇反应器中H_2O_2 / UV在LSI光刻胶工艺中TOC去除工业原废水

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摘要

The raw industrial wastewater from LSI photo-resist processing which contains 1,2-naphthoquinone-2-diazido-5-sulfonic acid sodium salt as a main component with high NaCl concentration(>20 kg/m~3), is very difficult to treat.
机译:以NaCl浓度高(> 20 kg / m〜3)为主要成分的1,2-萘醌-2-重氮基-5-磺酸钠为主要成分的LSI光阻工艺产生的工业废水很难处理。对待。

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