...
机译:混合放电等离子体对单晶硅的离子和化学刻蚀
机译:混合放电等离子体对单晶硅的离子和化学刻蚀
机译:组合放电等离子体对单晶硅进行反应性离子刻蚀的特性
机译:组合排放等离子体通过等离子体进行单晶硅反应离子蚀刻的特征
机译:复合放电等离子体对单晶硅进行离子化学刻蚀的工艺特性
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:质子束写入结合电化学刻蚀法制备的硅基光子晶体
机译:基于电子的电子快速谐振在CF4 / AR等离子体中的硅的化学辅助等离子体蚀刻