摘要:HCFC-225是高ODP值的CFC-113、全氟烃和其它全氯氟烃的替代物,对环境敏感,可用于各种T业清洗。AsahiGlass公司的AsahiklinAK-225是两种异构体的混合物,已经实现商品化。AK-225的物理性能、材料的相容性和清洗性能与CFC-113非常类似,广泛用于精密零件的清洗。AK-225与醇和其它溶剂混合成为类似于共沸物的混合物,适用于助焊剂的清除应用。AK-225AES是类似于共沸物的混合物,它是由AK-225、乙醇和稳定剂混合而成,可用于应用多种助焊剂的清除。AK-225T和AK-225ATE是用于解决在AK-225AES清洗后的印制电路板上偶尔形成的白色残余物的问题。AK-225T是AK-225、乙醇、烃和稳定剂的混合物;AK-225ATE同样是类似于共沸物的混合物,由AK-225,乙醇、顺式-1,2-二氯乙烯和稳定剂混合而成。本文对AK-225及其混合物的广泛应用进行了回顾,并介绍了典型的清洗应用及用HCFC-225清洗零件的程序和一种载体溶剂的应用。