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【24h】

パルスレーザー堆積法により作製した耐熱特性を有する酸化亜鉛上のアンチモンドープ酸化スズ積層型透明導電膜の電気的・光学的特性

机译:脉冲激光沉积法制备的具有耐热性的氧化锌上掺锑氧化锡层透明导电膜的电学和光学性质

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摘要

It is the purpose of this report to fabricate transparent conducting multilayered films with anti-heat properties using ZnO as the chief ingredient. The multilayered films are composed of ATO (1.0 wt.% Sb_2O_3 doped tin oxide)/AZO (1.5 wt.% A1_2O_3 doped zinc oxide) structure. After the fabrication process, a test of anti-heat properties was carried out at 500℃ for 24 hours. Electrical and optical properties were compared before or after the test of anti-heat properties. In this report, favorable experimental results are described.%PLD法でATO/ZnO系積層型透明導電膜を成膜した結果,以下の結果が得られた.1)ATOの膜厚が30nmの場合,大気圧中5000cq)条件下で抵抗率を1.69×10~(-4)(n・Cm)から3.36×10~(-4)(n・cm)と低抵抗率な値を保つことができることがわかった.2)光学特性ではATOの膜厚を100nmにした場合に可視光領域で透過率の減少が見られた.
机译:本报告的目的是使用ZnO作为主要成分制造具有抗热性能的透明导电多层膜。该多层膜由ATO(1.0 wt。%Sb_2O_3掺杂的氧化锡)/ AZO(1.5 wt。%A1_2O_3)组成掺杂的氧化锌结构)。制造过程后,在500°C下进行了24小时的抗热性能测试,比较了抗热性能测试前后的电学和光学性能。通过%PLD法沉积ATO / ZnO基层叠透明导电膜的结果作为实验结果进行了说明,结果如下。 1)当ATO的膜厚为30 nm时,在大气压5000cq下,电阻率从1.69×10〜(-4)(n·Cm)变为3.36×10〜(-4)(n·cm)。发现可以保持低电阻率; 2)在光学特性中,当ATO的膜厚度为100nm时,在可见光区域中透射率降低。

著录项

  • 来源
    《真空》 |2011年第3期|p.210-212|共3页
  • 作者单位

    大阪産業大学工学部電子情報通信工学科(〒574-8530 大阪府大東市中垣内3-1-1);

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    大阪産業大学工学部電子情報通信工学科(〒574-8530 大阪府大東市中垣内3-1-1);

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