AlN/Ag/AlNナノ積層化による低抵抗透明導電膜の作製

摘要

Low resistivity transparent conductive coating consisting of AlN/Ag/AlN nano-multilayer film was fabricated using New Magnetic Hollow-Cathode V-type Sputtering Systems. The electrical and optical properties of multilayer films have been examined. A minimum sheet resistance of less than10 Ohm/sq. and a maximum transmittance of ＞90% were obtained for AlN (40 nm)/Ag (10 nm)/AlN (40 nm) on Polyethylene terephthalate substrate.%低温·低ダメージ成膜プロセスであるN-MHVスパッタ法を活用した反応スパッタ法によるAlN薄膜とAg合金薄膜を組合せ，種々の条件でPETフィルム上に成膜したAlN/Ag/AlNナノ積層膜について，電気·光学特性の関連性を検討した.結果として.1)Ag合金薄膜単層においては透過率の最大を示す光波長は紫外域にあるが，積層するAlN薄膜の膜厚を40nmに設定することにより，視感度が最大であるλ：550nmで透過率が最大となるように制御できた.