机译:高压4H-SiC功率MOSFET的平面边缘终端
CSIC, CNM, IMB, Campus Univ Autonoma Barcelona, E-08193 Barcelona, Spain;
CALY Technol, 56 Blvd Niels Bohr, F-69100 Villeurbanne, France;
ABB Switzerland Ltd, Corp Res, Segelhofstr 1K, CH-5405 Baden, Switzerland;
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wide band gap; SiC; high-voltage; edge terminations;
机译:用于4H-SIC功率MOSFET的鲁棒和区域高效的防护环边缘终端终端技术
机译:采用平面边缘结终止技术的高压4H-SiC P-i-N二极管的研究
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机译:高压4H-SIC器件平面边缘终端的实验分析
机译:1.2 kV 4H-SiC平面栅极功率MOSFET的设计,分析和优化,用于改进的高频切换
机译:拟议的双边沿触发静态D型触发器中的MOSFET沟道宽度和电源电压的多目标优化采用模糊非支配排序遗传算法II
机译:大功率4H-SiC二极管的平面边缘终端和相关制造工艺技术