机译:基于Hf的High-k膜的选择性去除
Honeywell Electronic Materials, Chandler, Ariz.;
机译:X射线光电子能谱和中能离子散射超高Hf基高k膜的比较研究
机译:脉冲激光沉积和H基高k介电薄膜的表征
机译:氮元素对高k Hf基介电薄膜总剂量辐射响应的影响
机译:在高k和金属栅极堆叠中选择性湿法去除基于HF的层和干燥后蚀刻残基
机译:纳米晶体嵌入锆掺杂的氧化ha高k栅极介电膜。
机译:用于硅纳米晶浮栅存储器的基于Hf的高k材料
机译:使用空间分辨电子能量损失谱表征Hf基高k薄膜和Si之间的界面