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摘要

The Coronus is a plasma-based bevel cleaning system designed to reduce yield loss caused by defects that originate near the wafer's edge. The system combines the multiple material cleaning capability of plasma with a confinement technology that protects the die area.
机译:Coronus是基于等离子的斜面清洁系统,旨在减少由晶圆边缘附近的缺陷引起的良率损失。该系统将等离子体的多种材料清洁能力与限制模具面积的限制技术结合在一起。

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