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1200VクラスのSBD内蔵SiCトランジスタを开発産総研と富士電機

机译:内置SBD AIST和Fuji Electric开发1200V级SiC晶体管

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摘要

産業技術総合研究所(産総研、中鉢良治理事長)先進パワーエレクトロニクス研究センター(奥村元研究センター長).SiCパワーデバイスチーム原田信介研究チーム長らのグループは、富士電機との共同研究で、炭化ケィ素(SiC)半導体を用いた1200V耐電圧(耐圧)クラスのトランジスタである縦型MOSFETとして、低いオン抵抗と内蔵ダイォードの高い信頼性を両立した独自構造のデバイス(SWITCH-MOS : SBD-Wall Integrated Trench MOS)を開発し、量産レベルの試作品で性能を実証した(図1)。
机译:先进功率电子技术研究中心(奥村原研究中心主任),AIST(AIST,中八良司,主任)。SiC功率器件团队原田伸介研究团队作为使用硅(SiC)半导体的耐压(耐压)1200V级晶体管的垂直型MOSFET,具有导通电阻低且内置二极管的可靠性高的独特结构的器件(SWITCH-MOS:SBD-Wall)。我们已经开发了集成式沟槽MOS,并已通过量产原型证明了其性能(图1)。

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    《电波新闻》 |2017年第17311期|12-12|共1页
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