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机译:化学气相沉积法制备掺磷n型同质外延金刚石薄膜的电子顺磁共振研究
Corporate Research & Development Center, Toshiba Corporation, 1 Komukai-Toshiuba-cho, Saiwai, Kawasaki, Kanagawa 212-8582, Japan;
other ions and impurities; carbon, diamond, graphite; chemical vapor deposition (including plasma-enhanced CVD, MOCVD, etc.);
机译:电子顺磁共振和阴极发光研究化学气相沉积同质外延金刚石膜中与氢空位有关的缺陷
机译:通过化学气相沉积法生长的轻掺杂磷的同质外延金刚石膜
机译:磷掺杂n型化学气相沉积金刚石薄膜中的光子辅助电子跃迁
机译:通过化学气相沉积而生长的Ultrapure Homoepitaxial金刚石薄膜
机译:磷掺杂的n型和氢掺杂的p型CVD金刚石薄膜的光电研究。
机译:化学气相沉积法生长的氮磷掺杂石墨烯的电子结构
机译:电子顺磁共振和阴极发光研究化学气相沉积同质外延金刚石膜中与氢空位有关的缺陷
机译:通过微波等离子体辅助化学气相沉积在高温下高生长率同质外延金刚石膜沉积