机译:退火对非晶SiN薄膜结构和发光的影响
National Laboratory of Solid State Microstructures and Department of Physics, Jiangsu Provincial Key Laboratory of Photonic and Electronic Materials Science and Technology, Nanjing University, Nanjing 210093, China;
optical materials and properties; luminescence; chemical vapor deposition;
机译:等离子体合成的SiO_2缓冲的SiN_x薄膜的可见光致发光:薄膜厚度和退火温度的影响
机译:通过低压化学汽相沉积非晶SiN_x(x = 0.16)薄膜的热退火形成硅纳米晶体
机译:SiO_2缓冲和退火增强SiN_x薄膜的可见光致发光。
机译:退火对沉积在多孔硅上的非晶SiC:Tb薄膜的结构和光致发光的影响
机译:水性前体的非晶态金属氧化物薄膜:高κ电介质的新途径,大气湿度退火的影响以及不均匀成分分布的阐明
机译:热退火对非晶硅氮化硅膜嵌入浓度的致密Si纳米蛋白光致发光的影响
机译:等离子体合成的SiO 2缓冲的SiN x薄膜的可见光致发光:薄膜厚度和退火温度的影响