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机译:厚度,退火和衬底对RF溅射ZnO薄膜的结构,形态,光学和波导特性的影响
Laboratoire des Semi-conducteurs, Université Badji Mokhtar-Annaba, Annaba, Algeria;
Laboratoire des Semi-conducteurs, Université Badji Mokhtar-Annaba, Annaba, Algeria,Centre de Développement des Technologies Avancées, Unité de Recherche en Optique et Photonique, Université de Sétif, 1 Campus El-Bez, Sétif, Algeria;
Laboratoire de Génie de l’Environnement, Université de Bejaia, Bejaïa, Algeria;
机译:低温退火对用于光伏应用的RF溅射生长的ZnO薄膜的结构,光学,电学和形态学特性的影响
机译:低温退火对用于光伏应用的RF溅射生长的ZnO薄膜的结构,光学,电学和形态学特性的影响
机译:衬底温度对直流磁控溅射Al和Ga共掺杂ZnO薄膜结构,形貌,电学和光学性质的影响
机译:后退火对射频磁控溅射制备ZnO:Al薄膜的结构,电学和光学性质的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:氧溅射压力对气敏性ZnO薄膜结构形貌和光学性质的影响
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)