溅射气氛对RF反应磁控溅射制备ZnO薄膜微结构及光致发光特性的影响

摘要

用射频反应磁控溅射法在不同溅射压强和氩氧比下制备了ZnO薄膜,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和光致发光(PL)谱等研究了溅射压强和氩氧比对ZnO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,所制备的ZnO薄膜为六角纤锌矿结构,具有沿c轴的择优取向;溅射压强P=0.6 Pa,氩氧比Ar/O2=20/5.5 sccm时,(002)晶面衍射峰强度和平均晶粒尺寸较大,(002)XRD峰半峰全宽(FWHM)最小,光致发光紫外峰强度最强.