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Comparison of binary and ternary growth over trenches using MOVPE

机译:使用MOVPE比较沟槽上的二元和三元生长

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摘要

The MOVPE growth of Al_(0.3)Ga_(0.7)As over trenches in compared to the growth of its binary components GaAs and AlAs. The growth rats for GaAs, AlAs and AlGaAs on planar (1 0 0), (3 1 1)A and (3 1 1)B substrates are independent of orientation and the AlGaAs growth rate and composition can be described by the sum of the two binaries. For growth over trenches with {3 1 1}-sidewalls the growth rate and the compoistion of the sidewalls are different compared to (1 0 0) due to the interplay of the adjacent facets.
机译:与其二元组分GaAs和AlAs的生长相比,Al_(0.3)Ga_(0.7)As在沟槽上的MOVPE生长。在平面(1 0 0),(3 1 1)A和(3 1 1)B衬底上GaAs,AlAs和AlGaAs的生长大鼠与取向无关,并且AlGaAs的生长速率和组成可以用以下公式的总和来描述两个二进制文件。对于具有{3 1 1}侧壁的沟槽的生长,由于相邻小平面的相互作用,侧壁的生长速率和复合比(1 0 0)不同。

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