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Etch processes support III-Vs market expansion

机译:蚀刻工艺支持III-Vs市场扩展

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摘要

From the production viewpoint, the need is for more efficient processes with higher yield and hence lower unit cost. This is especially true as markets begin to pick up. It applies equally to micro as well as optoelectronic devices. Another interesting factor is the incorporation of MEMS functions in small-scale integrated circuits. In this article some new developments in GaN, InP, SiC and others will be highlighted.
机译:从生产的角度来看,需要更高效的方法,更高的产量以及更低的单位成本。随着市场开始回升,尤其如此。它同样适用于微型以及光电设备。另一个有趣的因素是将MEMS功能整合到小型集成电路中。本文将重点介绍GaN,InP,SiC等方面的一些新进展。

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