机译:氢结合到通过氢等离子体溅射生长的钨沉积物中
Kyushu Univ, Dept Adv Energy Engn Sci, 6-1 Kasugakoen, Kasuga, Fukuoka 8168580, Japan;
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Tungsten; Hydrogen retention; Sputtering; Deposition;
机译:氢通过氘等离子体溅射生长在钨沉积物中
机译:通过氢等离子体溅射形成的碳钨共沉积层中氢的掺入
机译:成分和结构对溅射沉积氧化钨膜中氢结合的影响
机译:原位等离子体分析,通过等离子体增强化学气相沉积法沉积在Si上的氟化非晶碳和氢化非晶碳薄膜的氟掺入,热稳定性,应力和硬度比较
机译:调查与融合有关的等离子体物质相互作用:分析重离子损伤钨中的氢同位素保留。
机译:暴露于氢等离子体的二硫化钨纳米粒子的氢化学构型和热稳定性
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜