机译:使用H2O2-C4H10O2-Na2S2O5浆料对硬盘基板进行无磨蚀抛光
abrasive-free polishing material removal rate initiator hard disk substrate;
机译:异丙苯过氧化氢-H2O2浆料对硬盘基板的无磨料化学机械抛光
机译:H
机译:用H_(2)O_(2)-C_(4)H_(10)O_(2)-1NA_(2)S_(2)o_(5)浆料
机译:用苯甲酰基-H2O2浆料与苯甲酰基质的无硬盘基材的无磨料化学抛光
机译:氧化铝浆液喷射对铝基板抛光和腐蚀的影响:实验和CFD建模
机译:空气抛光处理的抗微生物效应及其对钛磁盘上人牙髓干细胞的影响
机译:用HO-CHO-NaSO浆料对硬盘基板进行无磨蚀抛光