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机译:4H-SiC平面和沟槽JBS二极管的分析模型和设计
Department of Industrial Engineering, University of Salerno, Fisciano, Italy;
4H-SiC junction barrier Schottky (JBS) diodes; Schottky barrier; design methodology; schottky barrier; semiconductor device modeling; silicon compound; silicon compound.;
机译:在4H-SiC JBS二极管中的沟道区设计通过潜在屏障的分析模型
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机译:沟槽设计对650V 4H-SIC JBS二极管电性能的影响
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机译:1.2 kV 4H-SiC平面栅极功率MOSFET的设计,分析和优化,用于改进的高频切换
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机译:3.5 kV 4H-SiC JBS二极管电气特性设计的影响
机译:最大限度减少废物处置场渗透的沟槽覆盖层研究。任务2报告。沟槽盖设计的实验室评估与计算机建模。