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4H-SiC沟槽结势垒二极管研制

         

摘要

优化设计了1200V 4H-SiC沟槽结势垒二极管(TJBS)主结处的沟槽结构,将主结范围内间隔刻槽的槽下、槽间进行P型注入形成结势垒,纵向增加了结势垒面积,从而在反向时可以有效利用主结承担更多电压,并有利于反向时耗尽区向终端区的扩展.通过Silvaco二维仿真软件对主结处的沟槽结构进行优化设计,其优化结构仿真击穿电压高达1843 V.并实际制作了此优化结构TJBS,结果表明其反向击穿特性优于传统沟槽结构.

著录项

  • 来源
    《电工电能新技术》 |2018年第10期|22-2638|共6页
  • 作者单位

    中国科学院微电子研究所高频高压器件与集成研发中心;

    北京100029;

    中国科学院大学;

    北京100049;

    中国科学院微电子研究所高频高压器件与集成研发中心;

    北京100029;

    中国科学院大学;

    北京100049;

    中国科学院微电子研究所高频高压器件与集成研发中心;

    北京100029;

    中国科学院微电子研究所高频高压器件与集成研发中心;

    北京100029;

    中国科学院微电子研究所高频高压器件与集成研发中心;

    北京100029;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN304.2+4;
  • 关键词

    4H-SiC; 沟槽结势垒二极管; 主结; 耐压特性;

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