机译:射频晶体管使用LDMOS技术实现更好的饱和度
机译:集成到0.25μmSiGe-BICMOS技术中的耐辐射RF-LDMOS晶体管
机译:辐射耐受RF-LDMOS晶体管,集成到0.25μm的SiGe-Bicmos技术中
机译:采用新型p沟道结构的高性能p沟道LDMOS晶体管和宽电压平台技术
机译:具有0.25 / spl mu / m SiGe:C BiCMOS技术的5 nm栅极氧化物的高性能RF LDMOS晶体管
机译:高压LDMOS晶体管基于可扩展的基于表面电势的紧凑模型
机译:更正:改善石墨烯-硅-场效应晶体管的漏极电流饱和度和电压增益
机译:采用0.13μmsiGe:C-BiCmOs技术集成LDmOs晶体管,用于高频应用