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Hermetic Cavities Using Gold Wafer Level Thermocompression Bonding

机译:使用金晶片级热压键合的气密腔

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摘要

This paper presents the study of gold/gold thermocompression bonding at silicon wafer level. The first samples contains sealing rings and electrical pads, and are characterized on pull, and shear test showing bond strength similar to silicon/glass anodic bonding (10 MPaa??80 MPa). A sealed cavity and a piezoresistor on a 30 ?μm-thick silicon membrane are added in the second samples. Helium test, membrane deflection and piezoresistor signal monitoring after aging 14 days at 250 ?°C confirm the vacuum stability inside the cavity after bonding.
机译:本文介绍了在硅晶片级进行金/金热压键合的研究。第一个样品包含密封环和电垫,并通过拉力和剪切测试进行表征,显示出类似于硅/玻璃阳极键合的键合强度(10MPaa≤80MPa)。在第二个样品中添加了一个密封腔和一个30 µm厚的硅膜上的压敏电阻。在250°C下老化14天后,进行氦气测试,膜变形和压敏电阻信号监控,可以确认粘结后腔体内的真空稳定性。

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