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机译:对低压化学气相沉积的单层石墨烯的部分压力辅助生长的校正:对高性能石墨烯FET器件的影响“
机译:通过低压化学气相沉积种植单层石墨烯的部分压力辅助生长:对高性能石墨烯FET器件的影响
机译:微波等离子体化学气相沉积法低温处理CO_2和O_3对绝缘基板直接合成石墨烯的影响
机译:基于外延锗层的金属氧化物半导体器件,通过超高真空化学气相沉积直接在硅衬底上选择性生长
机译:校正单层部分压力辅助生长由低压化学气相沉积种植的石墨烯:含义用于高性能石墨烯FET器件
机译:通过等离子体化学气相沉积改善石墨烯的电气装置性能的性能直接生长在SiO 2 sub>底板上