机译:热电半导体上的激光烧蚀光刻
Natl Acad Sci Ukraine, Inst Surface Chem, UA-03164 Kiev, Ukraine;
Univ Gothenburg, SE-41296 Gothenburg, Sweden;
laser ablation; fluence; laser-induced structures; surface; thermoelectric semiconductors; Cooper Islands; XECL LASER; OXIDE REMOVAL; RADIATION; SURFACE;
机译:用于准分子激光烧蚀光刻的新型激光烧蚀剂。光化学性质对烧蚀的影响
机译:高功率单纵模双锥形增益耦合分布式反馈半导体激光器基于I型光刻定义的周期性阳极
机译:使用405 nm AlInGaN半导体激光器的经济有效的激光干涉光刻
机译:超短激光脉冲对半导体透明层的激光烧蚀机理
机译:脉冲双激光烧蚀沉积热电钡8镓16锗30型I笼形薄膜的生长和表征。
机译:使用冻结的CO2抗蚀剂进行大面积薄膜有机半导体的干法光刻
机译:单个激光工作站上的微流控设备的微细加工工艺:在SU-8上直接书写光刻,在聚合物上进行激光烧蚀以及掩模制造