机译:Cr_2o_3薄膜的原子层沉积:结晶对生长和性能的影响
Institute of Physics, University of Tartu, Riia 142, 51014 Tartu, Estonia;
chromium(iii) oxide; thin films; atomic layer deposition; epitaxy; surface phenomena;
机译:等离子增强原子层沉积生长的ZnO薄膜:“原子层沉积窗口”内外的材料特性
机译:新型酰胺基胍基钛钛源和四烷基-二甲基氨基-钛原子层沉积技术在TiO2薄膜的生长和结晶中的应用
机译:氧化镍层原子层沉积辅助的非晶硅薄膜的金属诱导晶化
机译:用原子层沉积沉积的亚NM镍氧化物薄层的无定形Si薄膜的结晶
机译:金属有机化学气相沉积和原子层沉积方法,用于从二烷基酰胺前体中生长ha基薄膜,用于高级CMOS栅极堆叠应用
机译:从溶液中生长氢化锂薄膜:向溶液原子层沉积锂化薄膜
机译:等离子体增强原子层沉积Ti-Si-n薄膜的生长机理和扩散阻隔性能